【48812】国产光刻机将迎来大前进!最大技能难题曝光：处理后可出产10nm芯片

  【7月28日讯】信任咱们咱们都知道，自从在2020年5月15日，美商务部再次对华为晋级了”芯片断供禁令“今后，让华为海思芯片再次堕入到”窘境“之中，对此国内许多网友们都十分期望，国内的光刻机巨子—上海微电子，可以研制出产出愈加高端的光刻机，补足国产芯片制作的最终一道短板，而现在上海微电子所可以出产的光刻机，最高只能用来90nm的芯片制作，只可以出产愈加低端的芯片，在技能领域与ASML的5nm光刻机仍是有着十分大一截的技能距离。

  但实际上，咱们从上海微电子、ASML这两家公司的开展前史来看，荷兰ASML公司成立于1984年，而上海微电子成立于2002年，前后简直相差了近20年时刻，所以起步较晚的上海微电子天然在技能层面上处于落后，彻底也是情有可原。但也有许多网友直接提出疑问：“为何上海微电子的光刻机技能一向都停留在90nm工艺上呢？”

  其实关于上海微电子而言，之所以在光刻机技能领域一向停留在90nm阶段，很大程度上也是由于“滋润式光刻技能”这道门槛，仍旧还没有被攻破，现在光刻机设备最为首要的光源有三种，它们分别是汞灯光源、DUV光源、EUV光源；

  而滋润式光刻机技能的创意，也是来自于全球最大的芯片代工巨子—台积电的工程师，在光刻机开展到183nm波长的光源时，遭到相关的技能约束，无法进一步向157nm波长的光源进军，所以台积电的工程师直接提出了用水来做介质，让光在水中发生折射，让波长变短，这也是为何ArF+immersion，分明是193nm，却可以等效于134nm光源的最重要原因，这在某种程度上预示着一旦上海微电子可以处理滋润式技能；那么就能轻松完成28nm、16nm、14nm、10nm、7nm这些工艺节点的芯片光刻出产制作了。

  而现在上海微电子现已掌控了93nm的光源技能，所以一旦在滋润式技能取得了打破今后，最高就能轻松完成10nm芯片的量产，一起也可以让国产芯片制作水平、国产光刻机技能水平都能取得巨大的前进和提高，让国内芯片制作工业不再遭遭到“卡脖子”的要挟！

  最终：各位小伙伴们，你们对此有咋样的观点和定见呢？欢迎在谈论区中留言谈论，等待你们的精彩谈论！

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